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Soleymanzadeh, Babak: Femtosekundenlaser induzierte Modifikation in hydrogenisierten amorphen Silizium-Dünnschichten. 2016
Inhalt
Einleitung
Grundlagen
Silizium Photovoltaik
Silizium als Absorberschicht
Laserbehandlung von Si Solarzellen
Femtosekunden-Laserpulse
Intensität, Leistung, Fluenz und die Pulsenergie
Femtosekundenlaser Wechselwirkung mit Halbleitern
Lineare und nichtlineare Absorption
Lineare Absorption
Nichtlineare Absorption
Sättigbare Absorption
Zwei-Photon-Absorption
Absorbierte Pulsenergie, kritische Energiedichte und die Wärmediffusion
Femtosekundenlaser Modifikation von a-Si:H
Femtosekundenlaser induzierte Dehydrierung und Wasserstoff-Effusion
Femtosekundenlaser induzierte Kristallisation
Femtosekundenlaser Ablation
Aufbau des Experiments und Pulscharakterisierung
Lasersystem und Aufbau des Experiments
Strahlfokussierung
Fokuscharakterisierung
Puls Charakterisierung
Pulsenergie
Pulsdauer
Proben und deren Charakterisierung
Herstellung der Proben
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
Elektronenstrahlverdampfung (EBPVD)
Charakterisierung der Proben
Mikroskopie
Optische Mikroskopie
Rasterelektronenmikroskopie
Transmissionselektronenmikroskopie
Rasterkraftmikroskopie
Optische Eigenschaften
Ellipsometrie
Spektroskopie
Infrarot-Spektroskopie und die Bestimmung der Wasserstoffkonzentration
Mikro-Raman Spektroskopie
Profilometrie und die Messung der Schichtdicke
Zusammenfassung der Schichteigenschaften verwendet im Experiment
Ergebnisse I: Modelle für Laserkristallisation von a-Si:H
Einführung
Ergebnisse der Raman-Spektroskopie
Tiefenprofilierung mittels Raman-Spektroskopie
Grundlagen
Kristallisationsprofil
Bestimmung der Dicke der kristallisierten Schicht
Ergebnisse und Diskussion
Kristallisationsmodell basierend auf nichtlinearer Absorption
Kritische Energiedichte
Berechnung der Tiefe der Kristallisation und Bestimmung von
Einfluss der Wärmediffusion
Zusammenfassung und Schlussfolgerung
Ergebnisse II: Rolle des Wasserstoffs, erhöhter Lichteinfang und Doppelpuls-Bestrahlung
Einführung
Einfluss des Wasserstoffs auf den Modifikationsprozess
Schichtmodifikation unterhalb der Ablationsschwelle
Wasserstoffkonzentration: 30%
Wasserstoffkonzentration: 13%
Wasserstoffkonzentration: <1%
Schichtmodifikation oberhalb der Ablationsschwelle
Erhöhte Absorption durch Lichteinfang in der laserstrukturierten a-Si:H Schicht
Einfluss der Pulsenergie auf die Rauigkeit
Modifikation durch Doppelpuls-Bestrahlung
Zusammenfassung und Schlussfolgerung
Zusammenfassung und Ausblick
Literaturverzeichnis