TY  - THES
DA  - 2003
KW  - Molybdän , Silicium , Mehrschichtsystem , MOCVD-Verfahren , Elektronenstrahlverdampfen ,  , Multilayer , Mo , Si , MOCVD , TEM
LA  - ger
PY  - 2003
TI  - Zusammenhang von strukturellen, chemischen und röntgenoptischen Eigenschaften mittels MOCVD und Elektronenstrahlverdampfung hergestellter Mo/Si und W/Si Multischichten
UR  - https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:hbz:361-4897
Y2  - 2024-11-21T23:23:02
ER  -