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Interface Stability and Silicide Formation in High Temperature Stable MoxSi1-x/Si Multilayer Soft X-Ray Mirrors Studied by Means of X-Ray Diffraction and HRTEM
Kleineberg, U. ; Stock, H. J. ; Kloidt, A. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich ; Hopfe, S. ; Scholz, R.
In: Physica status solidi A: applications and materials science, Jg. 145 H. 2, S. 539-550
Mo 0,5 Si 0,5/Si multilayer soft x-ray mirrors, high thermal stability, and normal incidence reflectivity
Stock, H. J. ; Kleineberg, U. ; Kloidt, A. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich ; Krumrey, M. ; Müller, P. ; Scholze, F.
In: Applied Physics Letters, Jg. 63 H. 16, S. 2207-2209
Smoothing of interfaces in ultrathin Mo/Si multilayers by ion bombardment
Kloidt, A. ; Stock, H. J. ; Kleineberg, U. ; Döhring, T. ; Pröpper, M. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich
In: Thin Solid Films, Jg. 228 H. 1-2, S. 154-157
Thermal stability of Mo/Si multilayer soft-X-ray mirrors fabricated by electron-beam evaporation
Stock, H. J. ; Kleineberg, U. ; Heidemann, B. ; Hilgers, K. ; Kloidt, A. ; Schmiedeskamp, B. ; Heinzmann, Ulrich ; Krumrey, M. ; Müller, P. ; Scholze, F.
In: Applied Physics A: Materials Science and Processing, Jg. 58 H. 4, S. 371-376

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