Im Rahmen dieser Arbeit wurden Struktur und Eigenschaften von Mo/Si-Multischichten untersucht, die mittels Puls-Laser-Deposition (PLD) und Magnetron-Sputter-Deposition (MSD) synthetisiert wurden. Ausgehend vom zweikomponentigen Grundsystem, bestehend aus Molybdän-, Silizium- und Übergangsschichten, erfolgte eine Weiterentwicklung dieses Grundsystems, indem dünnste Barriereschichten zwischen die eigentlichen Mo- und Si-Lagen eingefügt wurden, die effektiv Interdiffusion und chemische Reaktionen der beiden Hauptkomponenten verringern können. Die damit verbundenen strukturellen Veränderungen innerhalb der Multischichten wurden mittels verschiedener Dünnschichtcharakterisierungsverfahren (Röntgenreflektometrie, EUV-Reflektometrie, Röntgendiffraktometrie, Transmissionselektronenmikroskopie = TEM) analysiert und die Auswirkungen auf die röntgenoptischen Eigenschaften werden beschrieben.